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國家標準ＧＢ２７５８１－２０１１《電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液鎳離子和銅離子含量測定方法》介紹
國家標準ＧＢ２７５８１－２０１１所采用的測定方法適用于電磁波屏蔽膜用化學鍍銅溶液中鎳離子含量的測試。
電磁屏蔽膜所用化學鍍銅溶液，是用ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ和ＮｉＳＯ４·６Ｈ２Ｏ配制成一定濃度的水溶液，在生產電磁屏蔽膜過程中主要消耗電鍍液中的銅離子，少量的鎳離子，為保持銅離子、鎳離子的濃度，需要不斷地補加ＣｕＳＯ４·５Ｈ２Ｏ和Ｎｉ－ＳＯ４·６Ｈ２Ｏ溶液，這就需要快速測定化學鍍銅溶液中銅離子、鎳離子的濃度，才能夠計算出需要補加的量。通過查閱國內外標準及有關技術資料，目前沒有該類方法的國家標準和行業標準，在已有制定標準中，銅、鎳含量分析大部分采用火焰原子吸收光譜法測定，而本標準對電磁屏蔽膜所用化學鍍銅溶液中銅離子、鎳離子的含量測定是常量分析，且需要快速測定，故采用了化學分析方法。在標準起草過程中，征求了全國１５家單位的意見，對標準進行完善、修改，并進行多次準確度、重現性試驗，證明本標準所采用的測定方法。完全可以滿足測試需求。
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本標準由中國樂凱膠片集團公司牽頭起草，為光學功能薄膜標準化技術委員會歸口，于２００８年完成《電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液鎳離子含量測定方法》（計劃編號：２００７３０７１－Ｔ－６０６）和《電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液銅離子含量測定方法》（計劃編號：２００７３０７２－Ｔ－６０６）國家標準（報批稿）的制訂工作。２０１１年５月，國家標準化管理委員會農業標準食品部在標準審批過程中，提出了將“電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液鎳離子含量測定方法”和“電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液銅離子含量測定方法”兩個標準合并的建議，經全國光學功能薄膜材料標委會慎重研究，同意將“電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液鎳離子含量測定方法”和“電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液銅離子含量測定方法”兩個國家標準報批稿合并，合并后的標準名稱為“電磁屏蔽膜化學鍍銅溶液鎳離子和銅離子含量測定方法”
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電磁屏蔽即利用屏蔽材料阻隔或衰減被屏蔽區域與外界的電磁能量傳播。電磁屏蔽的作用原理是利用屏蔽體對電磁能流的反射、吸收和引導作用，其與屏蔽結構表面和屏蔽體內部感生的電荷、電流與極化現象密切相關。屏蔽按其原理分為電場屏蔽(靜電屏蔽和交變電場屏蔽)、磁場屏蔽(低頻磁場和高頻磁場屏蔽)和電磁場屏蔽(電磁波的屏蔽)。通常所說的電磁屏蔽是指后一種，即對電場和磁場同時加以屏蔽。
按照屏蔽作用原理，屏蔽體對屏蔽效能的貢獻分為三部分：
(1)屏蔽體表面因阻抗失配引起的反射損耗；
(2)電磁波在屏蔽材料內部傳輸時，電磁能量被吸收引起傳輸損耗或吸收損耗；
(3)電磁波在屏蔽材料內壁面之間多次反射引起的多次反射損耗。由此可以得到影響材料屏蔽效能的三個基本因素，即材料的電導率、磁導率及材料厚度。這也是屏蔽材料研究本身所必須關注的問題和突破口。當然，對于電磁屏蔽體結構，其屏蔽效能還與結構、形狀、氣密性等有關，對于具體問題，還需要考慮被屏蔽的電磁波頻率、場源性質等。
應用：F/PCB電磁波屏蔽膜、手機、平板、智能穿戴、相機等
基于電磁屏蔽膜在FPC應用上日趨廣泛，以片狀銀粉作為導電介質，以油墨作為絕緣體，以環氧樹脂、固化劑等試劑混合為成膜劑設計出用于FPC軟性電路版上的電磁屏蔽薄膜，本電磁薄膜屏蔽效能達到55dB，壓合后厚度在15-21um，具有良好的制成適用性、耐高溫、抗化學性，符合環保要求，性價比高.為最適合高速傳輸FPC用的電磁波屏蔽膜。在智慧型手機與平板電腦要求高速化的時代，對于具備優越傳輸特性的FPC要求也變得更高。
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與過去的電磁波屏蔽膜相比，SF-PC3100-C的傳輸損失較小、得以實現FPC的高速傳輸。總厚度8μm的超薄型電磁波屏蔽膜。即使溫度環境在-20℃～+60℃的寬廣范圍下，彎折半徑在0.65mm下，撓折、彎曲壽命也可以達到100萬次以上。此外，由于不含鹵素，但仍然具有高耐燃特性，燃燒等級為UL94VTM-0（登錄）。盡管實現了超薄型，但其屏蔽性能等的基本特性以及在FPC上的加工性上，也與過去的SF-PC5500一致。可滿足手機末端用途「更薄」、「更輕」的特性要求。SF-PC6000-U1為針對基板段差（軟硬結合板及多層軟板）填補性增加所設計的電磁波屏蔽膜。